不銹鋼法蘭的低溫處理方法：

　　由于不銹鋼法蘭表面氧化膜的存在，使一般的氣體滲氮很難進行。雖然表面活化處理后的不銹鋼可以進行氣體滲氮處理，但是工序復雜，不易控制，所以人們逐漸采用了一些新的滲氮工藝技術。離子滲氮技術就是其中應用最廣的一種。常規離子滲氮是在 500～560℃溫度下的N2和H2或NH3混合氣氛中進行的。由于離子滲氮能直接去除不銹鋼表面的鈍化膜，并易于實現局部滲氮和較容易控制氮勢，在不銹鋼表面強化方面顯示出較大優越性。對一些馬氏體不銹鋼進行離子滲氮的結果表明，離子滲氮可有效地在不銹鋼表面形成一定厚度的滲氮層，而不需要進行去除氧化膜的預處理。滲氮后的不銹鋼硬度和耐磨性均有顯著提高。但是常規的離子滲氮容易在不銹鋼表面形成CrN而使基體出現貧鉻，進而降低不銹鋼的耐蝕性。所以，盡管經離子滲氮處理后不銹鋼的表面硬度、耐磨性和抗擦傷、抗膠合能力有大幅度提高，但若處理不當，容易發生表層剝落、硬化層(滲氮層) 厚度不均勻以及耐腐蝕性大幅下降等質量問題。

　　為了避免高溫下形成CrN，損害不銹鋼法蘭固有的耐蝕性，必須發展低溫處理方法。上世紀80年代研發了等離子體低溫滲氮研究，很好地解決了奧氏體不銹鋼經處理后耐蝕性降低的技術難題。該技術的關鍵是在低溫下(350～450℃) 進行，以避免形成CrN而使基體貧鉻后耐蝕性下降。

　　盡管低溫滲氮技術克服了滲氮后不銹鋼法蘭耐蝕性下降的問題，但離子滲氮也有其本身的缺點，如邊界效應、空心陰極效應，以及不銹鋼法蘭溫度不均等。為了克服離子滲氮的缺點，人們開發了活化屏離子滲氮技術。在活化屏滲氮技術中，不銹鋼法蘭處于懸浮狀態，離子轟擊金屬屏而不是不銹鋼法蘭本身。與常規離子滲氮相比，該技術可以處理不同形狀的不銹鋼法蘭，并能消除邊緣效應以及空心陰極效應，還能方便地測量不銹鋼法蘭的溫度。對 AISI 420馬氏體不銹鋼的活化屏滲氮行為的研究表明，新工藝不僅消除了邊界效應，而且具有更高的滲氮效率，同時還可以完全消除由邊界效應引起的腐蝕環。

　　與滲氮相似，對不銹鋼法蘭進行滲碳處理也可分為氣體滲碳和離子滲碳兩大類型。傳統氣體滲碳溫度很高，一般在800～1000℃，所以對不銹鋼法蘭很少使用，主要采用低溫離子滲碳技術。低溫離子滲碳處理通常在550℃以下進行，所用氣體為H2和CH4或C2H2的混合氣體。